2025年PCIM Asia Shanghai（上海国际电力元件、可再生能源管理展览会暨研讨会）将于9月24-26日在上海举办，聚焦碳化硅、氮化镓、电机驱动和运动控制等热门话题，同时展示电力电子元件及系统、电力转换、智能运动相关的前沿技术。来自电子行业、应用领域以及科研院所的一众业界精英将于现场分享真知灼见，共议行业未来。

全球领先的氮化镓功率半导体领导者英诺赛科宣布将参与本届PCIM Asia，展示英诺赛科高性能氮化镓芯片与多应用领域的卓越方案。除了展览展示，英诺赛科GaN IC设计产品副总陈敏还将出席氮化镓专场论坛，在现场分享氮化镓最近技术进展。

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英诺赛科 (02577.HK) 是全球领先的第三代半导体高新技术企业，致力于硅基氮化镓 (GaN-on-Si) 的研发与制造。公司拥有全球最大规模的8英寸硅基氮化镓晶圆生产基地，产品设计及性能处于国际先进水平。公司氮化镓产品用于各种低中高压应用场景，产品研发范围覆盖15V至1200V，涵盖晶圆、分立器件、IC、模组，并为客户提供全氮化镓解决方案。成立至今，英诺赛科拥有1000项专利及专利申请，产品可广泛应用于消费电子、可再生能源及工业应用、汽车电子及数据中心等前沿领域。

英诺赛科，引领氮化镓革命，赋能未来！

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