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Wolfspeed获超100亿融资,布局这项碳化硅技术?
行家说三代半 · 2026-10-09
昨日,Wolfspeed宣布获得美国战争部30年期15亿美元(约合人民币101.05亿元)有条件贷款承诺,用于推进国内宽禁带半导体供应链建设。
“行家说三代半”发现,通过此次长期融资,Wolfspeed将与美国战争部进行股权绑定,并重点开发GaN-on-SiC技术,以支持国防等领域的发展。但值得注意的是,Wolfspeed此前已出售氮化镓射频业务,此次加注或意味着其将调整在氮化镓领域的战略定位。
Wolfspeed获15亿美元贷款
重点开发GaN-on-SiC技术

10月7日,Wolfspeed在官网宣布,他们已获得美国战争部战略资本办公室发出的有条件贷款承诺函,最高可获得15亿美元的长期融资,以支持碳化硅材料和宽禁带功率器件在美国本土的开发生产,并重点关注美国国家安全应用。

除了支持本土宽禁带半导体供应链之外,这笔15亿美元贷款还将推进战争部的关键举措。具体而言,Wolfspeed计划将该融资用于升级其氮化镓外延能力,以服务于下一代通信基础设施和电子战系统,并为其现有SiC和未来GaN产品开发抗辐射加固技术。

Wolfspeed还透露,此次融资预计将推进一项多年计划,目标包括:

  • 巩固Wolfspeed在国内碳化硅材料和功率器件领域的领导地位;

  • 建立、扩大或回流美国本土低压/高压GaN功率器件生产能力;

  • 推进GaN-on-SiC射频外延片技术;

  • 开发美国本土抗辐射加固技术。

Wolfspeed首席执行官Robert Feurle表示,碳化硅和氮化镓在国家安全领域有着至关重要的应用,这项融资将促使他们持续推进碳化硅材料和宽禁带功率器件的研发,从而构建更具韧性的美国半导体和国防工业基础。

在最终协议的谈判和签署之后,美国战争部将向Wolfspeed提供30年期的长期贷款。作为该潜在融资安排的一部分,Wolfspeed预计需向美国战争部发行基于VWAP的认股权证,合计最多可购买其完全稀释后股权的7.5%,认股权证将随融资批次拨付按比例发行。
盘点Wolfspeed的GaN布局:
由IDM模式转为材料供应

从Wolfspeed的公告来看,此次融资布局重点为GaN-on-SiC产品。但从Wolfspeed的实际布局来看,其氮化镓射频业务虽然起步较早,但目前已经出售,仅保留氮化镓外延业务。

根据《2022年氮化镓功率与射频产业调研白皮书》,Wolfspeed的射频技术来源主要有2部分:

  • 第一是自主研发:

1998年,Cree/Wolfspeed展示首个GaN-on-SiC HEMT;

2000 年,Wolfspeed成功制造GaN MMIC;

2008 年,Wolfspeed推出了首个GaN-on-SiC射频器件。

  • 第二是收购:

2004年3月 ,Cree收购先进技术材料(ATMI)的碳化硅衬底和氮化镓外延业务;

2018 年,Wolfspeed还以3.45亿欧元(约27亿人民币)收购英飞凌射频业务。

在2023财年一季度财报会议上,Wolfspeed 执行副总裁兼首席财务官Neill P. Reynolds曾透露,他们的射频业务工厂一直处于满负荷状态,射频产品营收约占他们总营收的20%,但长期计划的营收占比将仅为10%。

但在2023年8月,Wolfspeed和MACOM共同宣布,他们已达成一项交易——Wolfspeed将GaN-on-SiC射频业务出售给MACOM,合计总价为1.25亿美元(约8.99亿人民币),MACOM将接管Wolfspeed的4英寸GaN晶圆制造工厂、射频设计团队和相关产品开发资产等。

根据MACOM公告,Wolfspeed的射频业务当时的年收入约为1.5亿美元(约10.8亿人民币)。伴随交易完成,Wolfspeed预计还将为MACOM提供半绝缘型碳化硅衬底和外延产品。

Wolfspeed氮化镓外延技术示意图

目前,据Wolfspeed官网透露,其仍保留用于射频器件的材料业务,可向客户提供4/6英寸高纯半绝缘碳化硅衬底和氮化镓外延产品。据此来看,Wolfspeed在氮化镓领域的布局已从早期的射频器件IDM模式,转向以高纯半绝缘碳化硅衬底和GaN外延为核心的材料供应模式。

此次获得美国战争部15亿美元资金,重点支持GaN外延能力升级和抗辐射加固技术开发,表明Wolfspeed将强化其在GaN-on-SiC材料环节的竞争力,并进一步深化氮化镓技术与产能布局。

据《2025碳化硅(SiC)衬底与外延产业调研白皮书》透露,SiC基GaN器件是射频市场主流产品和技术解决方案,国际主流尺寸为4-6英寸,4 英寸产线代表企业为日本住友和中国台湾稳懋,6英寸产线主要集中在美国,代表企业为Macom、Qorvo 和恩智浦;国内则有多家衬底厂商推出了8-12英寸半绝缘碳化硅衬底。

而在今年8月,位于欧洲的碳化硅衬底企业TekSiC也宣布在半绝缘碳化硅衬底研发上取得了突破,其参与了瑞典政府的半导体合作项目,将提供半绝缘碳化硅衬底,交由位于瑞典林雪平的晶圆代工厂SweGaN AB进行氮化镓外延加工,并由查尔姆斯理工大学进一步开发成氮化镓HEMT器件。

本文发自【行家说三代半】,专注第三代半导体(碳化硅和氮化镓)行业观察。

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