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阿肯色大学正在开发碳化硅等离子体CVD
三代半快讯 · 2023-01-11
行家说消息  美国阿肯色大学称,致力于开发多用途碳化硅研究和制造设施的美国大学研究团队上个月跨过了一个重要的里程碑,当时它委托 Deposition Technology 制造对碳化硅芯片制造工艺至关重要的大批量制造工具。
该工具将被重新制造,以满足美国研究人员对多用途碳化硅研究和制造设施所需的独特规格,这是一种独一无二的设施,将培训下一代半导体研究人员和工程师进行切割-通过提供专注于碳化硅半导体器件、传感器和集成电路的研究专家的基础设施来开发边缘设备。
在 2020-21 年,多用户碳化硅研究和制造设施从国家科学基金会获得了近1800万美元,从陆军研究实验室获得了 540 万美元。 
电气工程杰出教授 Alan Mantooth 是多用途碳化硅研究与制造设施的首席研究员。该项目的联合首席研究员是物理学特聘教授 Greg Salamo;陈忠,电气工程副教授;电气工程系业务和运营经理 Shannon Davis;和多用途碳化硅研究与制造设施的常务董事 John Ransom。
该集团正与Dalrada Financial Corporation的子公司 Deposition Technology 合作,打造一种等离子体增强型化学气相沉积工具,用于在碳化硅芯片上沉积绝缘薄膜。
完整的新闻稿可在美国商业资讯上获取。
该设施将开发新的电子产品以解决国防领域的问题,并制造更节能和耐热的设备。该项目还将为美国军方的分支机构制造用于紧凑而坚固的电子设备的高级集成电路。
阿肯色大学正在开发碳化硅等离子体CVD
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