行家说消息 12 月 15 日，离子工艺设备的领先制造商 Plasma - Therm宣布已收到日本一家领先设备制造商的订单，Heatpulse 系统将用于在日本制造用于电动汽车 (EV) 的碳化硅 (SiC) MOSFET 功率器件。

新平台继续引起 Plasma-Therm 全球客户群的极大兴趣，以满足新的处理需求和更高的投资回报率 (ROI)——包括上个月在欧洲宣布的多个订单。这家日本客户选择 Heatpulse RTP 用于其新的双烤箱配置、达到 1000 摄氏度以上的温度的能力，以及用于其全新的 Cortex ®高级监控软件。

“许多设备制造商都在努力应对供应链问题，这些问题影响了他们满足当前备件需求的能力，包括遗留安装的 Heatpulse 系统。我们的战略是为我们的客户提供解决方案，使他们现有的已安装系统现代化并降低与采购备件相关的风险，”Plasma-Therm 销售和业务开发副总裁 Jim Garstka 说。“这使客户能够立即从关键系统升级中受益，以提高性能和吞吐量，同时在未来十年内保持现有流程在生产中平稳运行。”

Plasma-Therm 日本地区经理 Hirokuni Shibata 表示：“我们继续看到 200 毫米和更小基板的专业市场快速增长，包括汽车应用的功率器件，行业分析师预计日本的增长率为 6.2%。” “我们的大部分 Heatpulse 遗留系统都安装在日本，我们很高兴为客户提供即时解决方案，以提高加工性能并确保最长的工具正常运行时间。”

重新设计的 Heatpulse RTP 平台与旧版 AG Heatpulse 8108 和 8800 系统以及现有流程完全兼容。这个灵活的平台可以容纳多种晶圆尺寸，并具有升级的机器人技术和 Plasma-Therm 行业领先的 Cortex ®过程控制软件。凭借双炉配置，新的 Heatpulse 在更小的占地面积内提供更高的每平方米吞吐量，使客户能够实现更高的投资回报率。直接结果是优化产量和产能，并在大批量制造期间最大限度地延长正常运行时间。此外，实施了新的 Heatpulse RTP 晶圆尺寸转换套件，消除了复杂、耗时的系统硬件更改，有助于进一步提高投资回报率并在转换过程中节省时间和金钱。