韩国将成立碳化硅/氮化镓功率半导体研究组
行家说消息 4月7日,韩国媒体报道称,韩国计划成立碳化硅、氮化镓等功率半导体开发研究组。
由韩国半导体企业、大学和研究所组成的“下一代晶体工程研究会”将于4月14日成立。该研究小组旨在为碳化硅(SiC)基功率半导体的发展创建一个国内生态系统,培育开发 SiC 半导体及相关材料、零件和设备的公司。
该课题组通过打造韩国本土SiC生态系统来应对功率半导体市场的增长。LX Semicon、SK Siltron、Hana Materials、STI等约30家功率半导体公司计划开发实现功率半导体的材料、零件和设备。
照片图像
LX Semicon 开发 SiC 半导体,SK Siltron 负责 SiC 材料晶圆。Hana Materials 和 STI 将负责开发 SiC 半导体元件和设备技术。光云大学、嘉泉大学和国民大学将支持 SiC 半导体研发基础设施,纳米融合技术研究所和韩国陶瓷技术研究所将提供技术支持。
课题组也在推动成立联盟,为SiC半导体市场的成长做准备。