合计455万！又有SiC/GaN采购
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最近，国内又有企业要采购SiC/GaN设备。
中科院物理研究所：
拟采购SiC设备
5月6日，中国科学院上海应用物理研究所对外公开招标，拟采购的设备为立式化学气相沉积系统(SiC)，预算金额为190万元。
公告显示，该设备主要用于制备碳化硅复合材料化学气相渗透工艺(CVI)和化学气相沉积工艺(CVD)制备性能稳定的SiC基体和SiC涂层，同时具备碳化硅复合材料化学气相渗透工艺(CVI)制备炭界面层。
▲招标文件获取时间：2022年5月5日-2022年5月11日
▲招标文件获取地点：上海市共和新路1301号C座108室
▲提交投标文件截止时间：2022年5月26日 9：30
▲开标地点：上海市共和新路1301号C座1楼会议室
▲联系方式：赵青/021-59554966
江南大学：
采购氮化镓材料刻蚀系统
同一时间，江南大学发布了采购1套氮化镓材料刻蚀系统的招标公告，总预算为265万元。
公告显示，该氮化镓材料刻蚀系统用于各种高质量薄膜的刻蚀，例如GaN、AlN等。可形成各种尺寸的微米、纳米结构图形，从而实现各种不同类型的器件加工。
▲招标文件获取时间：2022年5月5日-2022年5月11日
▲招标文件获取地点：江苏省南京市鼓楼区郑和中路118号D座16楼1612室（邮购）
▲提交投标文件截止时间：2022年5月26日 9：00
▲开标地点：江苏省南京市鼓楼区郑和中路118号D座15楼1507室
▲联系方式：王老师（技术）/0510-85329901;黄老师（商务）/0510-85326007
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